芯片加工厂的事按部就班的进行，王岸然也放下一块大石头。
    不过这只是开始，王岸然要买的不仅仅是一摊子设备，二是要消化技术。
    就那光刻机来说，这套设备使用的是尼康生产的gkl107 436纳米波长紫光光源，用的是高压汞灯过滤之后色波长。
    这套设备用不了几年就会被淘汰。
    相比于市场上更为先进的248纳米的紫光光源光刻机落后了两代，中间相隔了一代365纳米光源光刻机。
    要知道365纳米和248纳米光源，中间隔了一道鸿沟。
    436纳米紫光光源演进到365纳米紫光光源，只能说是技术的进步，所用的光源都是高压汞灯。
    而到了248纳米紫光光源，那就是技术的换代，所用的光源是卤素激光光源。
    而且，王岸然记得很清楚，在1995年，193纳米紫光激光光源的光刻机在技术上已经取得重大突破，在今后的几年也将投入市场。
    要知道，芯片生产的核心装备光刻机，每一次更新换代付出的代价，至少是百亿美的数量级金，而且越往后越难。
    历史上，193纳米紫光光刻机之后的换代，玩死了一大批老牌光刻机厂家。
    原本全世界可以生产光刻机的有十三家，日本就有四家，到157纳米光刻机之后，也就asml能勉强活下来，其他一大批厂家要么倒闭，要么半死不活。
    岛国最顶尖的尼康和佳能，也因为方向错误，在157纳米干式光刻与asml浸没式光刻机在竞争中落败。
    再加上asml又搞出个双工作台技术，大大提高了芯片的生产力和精度。
    让两大巨头彻底从生产高端光刻机，沦为售卖中低端产品，再也无力最顶尖的极紫光光刻机的竞争。
    到了9102年，全世界的高端市场，只养活了一家asml。
    事实上，如果没有台积电，intel，三星等芯片巨头的输血，硕果仅存的asml也将被市场的浪潮吞没，光是台积电和三星，在2016年就投了20亿欧元，砸在asml身上。
    难，真难，也不一定会取得成功，光刻机的研究就是吞金巨兽，有没有意义？
    这是肯定的。
    这不是钱的事。
    但光刻机，光刻胶，蚀刻机，封装设备，光凭华芯科技一家，吃透这些技术基本上不可能，这需要调动全社会的力量。
    在清大的光学研究所，王岸然生了一肚子的闷气。
    刘本清教授在激光光源上耕耘一生，在1971年，参与了我国第一台紫光干涉激光的研制，在1980年，负责国家第一台接近式jl_01光刻机的研制。
    他实在受不了，自己的研究工作，会受一个毛头小伙子的指点。
    而王黯然也是气不过，自己在光学研究所投了上千万，现在好了，就是增加一个浸没式光刻机的探讨研究，就这么难？
    “王总，我再重申一遍，浸没式光刻机虽然在理论上可以缩小投影图，不过在实际操作上，已经被证明了，这套技术行不通，研究下去就是浪费钱。”
    “刘教授，我只是建议在这上面再做一些探讨，而且这项技术并没有证明行不通，而是还没有行通。”
    刘本伟不屑一顾。
    “王总，我跟你说这句话是实事求是的，浸没式光刻技术在七八年前就有立项，其中的困难跟你说，你也不清楚。
    我只想说明一点，有那个精力研究浸没式光刻机，把精力投到紫光激光光源上，效果会好的多。”
    看来在这个时代，大家的普遍意识就是，搞浸没式光刻机是条绝路。
    王岸然深吸一口气，犟鸭子嘴硬的科研人员太多了，自己当初也是他们的一员，跟刘本清生气，就是跟自己生气。
    这些人要是犯气牛脾气来，能把天捅破，唯一的解决之道，就是以德服人，哦，不，是以理服人。
    “超高纯度折射率液体，往往水里有一粒微尘，或者一个气泡，或者多了一些离子，都可能对加工造成巨大的影响。
    再加上高纯水浮在晶片上，目前的光刻胶中的分子会溶进水中，造成液体介质污染，刘教授，我说的没错吧！”
    刘本清在王岸然说第一句话的时候就愣住了，什么情况，他懂。
    待到王岸然将两大技术难点合盘而出，刘本清说道：“王总，你……？”
    王岸然装着没看见，背过身，继续说道：“除了两大问题，在实际操作中，也会面临平台的稳定性，校准系统，曝光时间等问题，需要按每台机器的类型多次调试……”
    刘本清想给王岸然竖个大拇指，说一声牛，这些资料可不怎么容易找到。
    “王总，既然你知道浸没式光刻机的缺陷，还需要继续坚持吗？”
    王岸然点点头，说道：“为什么不！刘教授，高纯水介质我们可以自己研发也可以跟外国合作，厌水光刻胶我们也可以这么办，当然，也可以考虑在光刻胶上再喷一道绝水薄膜，没有试过，怎么知道不行！”
    “我们试过很多种办法！”
    “那就再试，试到解决为止……”
    王岸然毫不客气，作为投资人，他是来发布命令的，而不是跟你讨价还价。
    浸没式光刻机肯定是未来的方向，而且波长越长，通过折射后，缩微的效果越明显。
    况且，光刻机的波长并能完全决定芯片的制程，通过特定的曝光方式也可以提高制程。
    事实证明，193纳米的紫光光源，也可以进行65纳米芯片工艺的生产。
    以前世对半导体芯片制造的理解，浸没式光刻，多重曝光方式能够取得进步的话，完全可以将这台东芝的二手货，改造成一台可以生产800纳米工艺的芯片加工厂，甚至更为先进的320纳米工艺也不是不可能。
    只不过芯片生产的效率，肯定会差很多，但至少说明一点，我们掌握了这项技术。
    而且通过这一过程，华芯科技还可以积累这部分的专利，在asml前面设置一套专利壁垒。
    至于这套专利有什么用，王岸然无法评估，按照他的估计，到那个时候，美利坚政府应该也会插手吧！
    还有五年的时间，王岸然在纸上写下磁悬浮双工作台，浸没式光刻系统，两大未来发展方向。
    这次他不打算，光靠国内研究机构的力量。
    “该到寻找外援的时候了！”
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